半导体晶圆制造高洁净 EPA 防护工程实景
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半导体高洁净 EPA 工程

针对晶圆制程的高洁净与高灵敏要求,构建可持续验证的 ESD 防护体系。

半导体高洁净 EPA 工程

行业
半导体 · 晶圆制造
项目周期
60 天
服务团队
8 人专家组
交付成果
良率提升 2.6%

案例背景

该半导体晶圆厂的高洁净 EPA 区域对静电控制要求严苛,器件对 HBM/CDM 放电极为敏感,微小放电即可造成器件损伤与良率损失。

思研科技按半导体行业规范,实施高洁净接地、防静电地板与全域智能监控,并选用低释放材料,保障高洁净环境下的静电防护可靠性。

高洁净接地 防静电地板 全域智能监控 高洁净适配
晶圆制程机械手作业

痛点分析

高洁净适配难

常规防静电措施易释气、发尘,与高洁净要求冲突。

放电极为敏感

器件对 HBM/CDM 放电敏感,微小电荷即可致损。

监控不可查

关键点位缺乏在线监控,异常难以预警与追溯。

实施方案

01

高洁净接地

高洁净区接地系统电阻控制在 ≤1Ω,实现低阻抗泄放。

02

防静电地板

铺设防静电地板,系统电阻控制在 1×10⁶~1×10⁹Ω。

03

全域智能监控

部署在线静电监控平台,静电电压 <100V,湿度维持 40%~60%RH。

04

高洁净环境适配

材料低释气、低发尘,契合高洁净 EPA 区域要求。

防静电地面施工

改善成效

0.5Ω
接地系统电阻
标准限值内
±35V
静电电压
关键工位受控
2.6%
良率提升
制程改善
24台
监控点位
全域在线可查

改造后高洁净环境参数稳定受控,良率提升 2.6%,静电防护证据链完整可追溯。

对标标准

ANSI/ESD S20.20 SJ/T 10694-2022 IEC 61340-5-1 AEC-Q / HBM / CDM

适用场景

晶圆制造区 光刻工位 封装车间 高洁净 EPA 设备搬入口

静电隐患不排查,产线停机成本会持续累积

从元器件损伤、设备误动作到良率波动,静电放电往往是隐藏诱因

现场诊断:排查接地、环境、设备与人员操作风险 方案定制:建立分级防护、监测与管理流程 工程落地:提供培训、文件记录与持续改进建议
电话咨询 18666968958 邮件咨询 gaoguoan@siyan.tech